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掃描電鏡的成像原理及附件能譜儀

更新時(shí)間:2021-11-05      點(diǎn)擊次數(shù):2135
  掃描電鏡的成像原理及附件能譜儀
  掃描電鏡由電子槍發(fā)射出來(lái)的電子束,在加速電壓的作用下,經(jīng)過(guò)磁透鏡系統(tǒng)匯聚,形成直徑為5nm,經(jīng)過(guò)二至三個(gè)電磁透鏡所組成的電子光學(xué)系統(tǒng),電子束會(huì)聚成一個(gè)細(xì)的電子束聚焦在樣品表面。在末級(jí)透鏡上邊裝有掃描線圈,在它的作用下使電子束在樣品表面掃描。
  由于高能電子束與樣品物質(zhì)的交互作用,結(jié)果產(chǎn)生了各種信息:二次電子、背反射電子、吸收電子、X射線、俄歇電子、陰極發(fā)光和透射電子等。這些信號(hào)被相應(yīng)的接收器接收,經(jīng)放大后送到顯像管的柵極上,調(diào)制顯像管的亮度。由于經(jīng)過(guò)掃描線圈上的電流是與顯像管相應(yīng)的亮度一一對(duì)應(yīng),也就是說(shuō),電子束打到樣品上一點(diǎn)時(shí),在顯像管熒光屏上就出現(xiàn)一個(gè)亮點(diǎn)。
  掃描電鏡就是這樣采用逐點(diǎn)成像的方法,把樣品表面不同的特征,按順序,成比例地轉(zhuǎn)換為視頻信號(hào),完成一幀圖像,從而使我們?cè)跓晒馄辽嫌^察到樣品表面的各種特征圖像。
  1 掃描電鏡襯度像
  1.1二次電子像
  在入射電子束作用下被轟擊出來(lái)并離開(kāi)樣品表面的核外電子叫做二次電子。這是一種真空中的自由電子。二次電子一般都是在表層5~10nm深度范圍內(nèi)發(fā)射出來(lái)的,它對(duì)樣品的表面形貌十分敏感,因此,能非常有效地顯示樣品的表面形貌。二次電子的產(chǎn)額和原子序數(shù)之間沒(méi)有明顯的依賴關(guān)系,所以不能用它來(lái)進(jìn)行成分分析。
  1.2背散射電子像
  背散射電子是被固體樣品中的原子核反彈回來(lái)的一部分入射電子,背散射電子來(lái)自樣品表層幾百納米的深度范圍。由于它的產(chǎn)能隨樣品原子序數(shù)增大而增多,所以不僅能用作形貌分析,而且可以用來(lái)顯示原子序數(shù)襯度,定性地用作成分分析。
  背散射電子信號(hào)強(qiáng)度要比二次電子低的多,所以粗糙表面的原子序數(shù)襯度往往被形貌襯度所掩蓋。
  2 掃描電鏡的附件
  掃描電鏡一般都配有波譜儀或者能譜儀。波譜儀和能譜儀是不能互相取代的,只能是互相補(bǔ)充。
  波譜儀是利用布拉格方程2dsinθ=λ,從試樣激發(fā)出了X射線經(jīng)適當(dāng)?shù)木w分光,波長(zhǎng)不同的特征X射線將有不同的衍射角2θ。波譜儀是微區(qū)成分分析的有力工具。波譜儀的波長(zhǎng)分辨率是很高的,但是由于X射線的利用率很低,所以它使用范圍有限。
  能譜儀是利用X光量子的能量不同來(lái)進(jìn)行元素分析的方法,對(duì)于某一種元素的X光量子從主量子數(shù)為n1的層躍遷到主量子數(shù)為n2的層上時(shí),有特定的能量ΔE=En1-En2。能譜儀的分辨率高,分析速度快,但分辨本領(lǐng)差,經(jīng)常有譜線重疊現(xiàn)象,而且對(duì)于低含量的元素分析準(zhǔn)確度很差。
  能譜儀與波譜儀相比的優(yōu)缺點(diǎn):
  (1)能譜儀探測(cè)X射線的效率高。
  (2)能譜儀的結(jié)構(gòu)比波譜儀簡(jiǎn)單,沒(méi)有機(jī)械傳動(dòng)部分,因此穩(wěn)定性和重復(fù)性都很好。
  (3)能譜儀不必聚焦,因此對(duì)樣品表面沒(méi)有特殊要求。
  但是能譜儀的分辨率比波譜儀低;能譜儀的探頭必須保持在低溫狀態(tài),因此必須時(shí)時(shí)用液氮冷卻。